JEBG系列大功率電子槍是用來在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜，還可應(yīng)用于電子束熔煉，用于高熔點金屬鑄錠的制備及精煉。
電子束能大范圍地快速掃描，通過專用的控制裝置和軟件，能生成各種電子束照射圖形和區(qū)域。由于能夠在各個照射位置上設(shè)定掃描、停留時間、輸出功率及電子束形狀，因而能夠控制熔融面和膜厚分布。
用途
真空蒸鍍
阻隔膜、保護膜、電極膜、導(dǎo)電膜、磁性膜等薄膜的形成。
真空熔解
Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔點金屬鑄錠的制備及精煉。
提煉太陽能電池的多晶硅
| 型號 | EBG-300UA | JEBG-1000UB | JEBG-3000UB |
| 最大輸出功率 |
30kW
(20kV, 1.5A)
|
100kW
(30kV, 3.4A)
|
300kW
(40kV, 7.5A)
|
| 最大偏轉(zhuǎn)角 | Max. ±30° | ||
| 掃描范圍 | X, Y 軸 | ||
| 最大掃描頻率 | 300Hz | 200Hz |
200Hz
(300Hz: 選配)
|
| 適用電源 | ST-30BE2 | JST-100C | JST-300CHR |
