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JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng)
JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達5nm）的圖形。此外，該光刻系統(tǒng)還實現(xiàn)了9nm以下的場拼接精度和套刻精度，性能比優(yōu)越。利用最細電子束束斑（實測值直徑≦2.9nm）可以描畫8nm以下(實際可達5nm)極為精細的圖形。
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JBX-9500FS 電子束光刻系統(tǒng)
JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具世界最高水平的產(chǎn)出量和定位精度，最大能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等多個領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
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JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng)
JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。最先進的技術(shù)實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復(fù)式的光刻系統(tǒng)?
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JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng)
JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。最先進的技術(shù)實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復(fù)式的光刻系統(tǒng)。
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JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng)
最新高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設(shè)計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
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