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IB-09060CIS? 低溫冷凍離子切片儀制樣設(shè)備

易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。

帶有樣品冷卻系統(tǒng)，對容易受熱損傷的樣品也可以進行截面制備的離子切片儀。

①通過液氮制冷，減輕了離子照射時對樣品造成的熱損傷。
②可以用于制備TEM的薄膜樣品和SEM的截面樣品*
③冷卻保持時間長，大大減少了熱損傷。
④在裝有液氮的情況下，也可以交換樣品。
*最大樣品尺寸:2.8mm(長度)×1.0 mm(寬度)×0.1mm(厚度)。

設(shè)備型號	WD-VPS431
灌膠方式	靜態(tài)閥/動態(tài)閥/螺桿閥/柱塞閥(可選配)
三軸模塊	X=400Y=300Z=100mm（可定制）
備料系統(tǒng)	料罐10L/20L/45L/60L/80L/100L（可選配）
真空壓力	2mbar
真空系統(tǒng)	抽吸流量100-200m3/h
操作系統(tǒng)	PLC/HMI