日本電子株式會(huì)社(JEOL Ltd.,總裁：大井 泉）宣布于2019年11月推出新型肖特基式(Schottky)場發(fā)射電子探針顯微分析儀JXA-iHP200F和新型鎢/ LaB6電子探針顯微分析儀JXA-iSP100.

開發(fā)背景

電子探針顯微分析儀(EPMAs)作為研究和分析工具被廣泛用于鋼鐵、汽車、電子零件和電池材料等工業(yè)領(lǐng)域。此外，在學(xué)術(shù)領(lǐng)域 ，EPMAs用于地球空間科學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域，不僅涵蓋礦物能源研究，而且涉及新型材料研究，從而為各種前沿研究做出貢獻(xiàn)。隨著EPMA應(yīng)用的增加，EPMA用戶需要具有高度可操作性的簡單快速的分析，同時(shí)也要在特定感興趣區(qū)域保持高質(zhì)量的痕量元素分析性能。為滿足這些需求，從觀察（光學(xué)和SEM圖像）到分析，JXA-iHP200F和JXA-iSP100均支持與波譜儀(WDS)、能譜儀(EDS)、陰極發(fā)光(CL)及其他技術(shù)的無縫集成。

主要特性

集成EPMA可實(shí)現(xiàn)簡單快速的操作

1.  高通量

任何人都能高精度無縫操作，從試樣交換到微區(qū)確定。

2.  高準(zhǔn)確度分析

任何人都能夠在短時(shí)間內(nèi)獲得高質(zhì)量的分析數(shù)據(jù)。

3.  易于維護(hù)

由于僅在需要時(shí)才自動(dòng)執(zhí)行維護(hù)，因此每個(gè)人都可以將EPMA系統(tǒng)維持在最佳狀態(tài)。

JXA-iHP200F和JXA-iSP100均具有高度可擴(kuò)展性，能配備WDS和EDS系統(tǒng)，還可配備做化學(xué)價(jià)態(tài)分析的軟X射線發(fā)射分光儀(SXES)、做晶體取向分析的電子背散射衍射系統(tǒng)(EBSD)、以及陰極發(fā)光檢測器(CL)。

Note: EPMA 是“Electron Probe Microanalyzer”的縮寫.

年度銷售目標(biāo)70臺